2020 试验设计及数据处理(太原理工大学现代科技学院) 最新满分章节测试答案

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本课程起止时间为:2020-02-17到2020-05-01
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第一章 引言 第一章单元测验

1、 问题:如何处理实验中存在多个因子的情况？
选项：
A:最佳猜测法
B:析因实验法
C:一次一因子法
D:区组化
答案: 【析因实验法】

2、 问题:下列不属于常用的实验策略的是
选项：
A:最佳猜测法
B:定量分析法
C:一次一因子法
D:析因实验法
答案: 【定量分析法】

3、 问题:能够使“观测值（或误差）是独立分布的随机变量”这一假定有效的基本原理是
选项：
A:重复实验
B:重复测量
C:区组化
D:随机化
答案: 【随机化】

4、 问题:能够高效利用数据的实验策略是
选项：
A:一次一因子法
B:最佳猜测法
C:析因实验法
D:重复实验法
答案: 【析因实验法】

5、 问题:区组化能够实现
选项：
A:得到实验误差的估计
B:提高实验精度
C:减少或消除干扰因子带来的影响
D:“平均掉”可能出现的外来因子的效应
答案: 【提高实验精度;
减少或消除干扰因子带来的影响】

6、 问题:潜在设计因子中效应相对较小的是
选项：
A:设计因子
B:固定因子
C:允许变动因子
D:可控因子
答案: 【固定因子;
允许变动因子】

7、 问题:在实验中可以采用随机化来补偿不可控因子的效应。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【错误】
分析：【可采用协方差分析来补偿不可控因子的效应。】

8、 问题:分式析因实验法的解释是最直观的。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【错误】
分析：【一次一因子法的解释是非常直观的。】

9、 问题:重复实验只反映实验间的变异。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【错误】
分析：【重复实验既反映实验间的变异又反映实验内的变异，重复测量则反映一次实验内的变异。】

10、 问题:实验是用来研究过程或系统性能的一种研究方式。
选项：
A:正确
B:错误
答案: 【正确】

【作业】第一章 引言 第一章单元作业

1、 问题:实验的基本原理有哪些？
评分规则: 【 随机化
重复实验
区组化
】

2、 问题:重复实验具有什么优良性质？
评分规则: 【 可以得到实验误差的估计
如果用多次重复实验的样本均值估计响应变量的均值，则能够得到更精确的均值估计。
】

3、 问题:最佳猜测法有哪些缺陷？
评分规则: 【 假定最初的最佳猜测没有产生预期的结果，实验者不得不做另一个关于因子水平正确组合的猜想，这要继续很长时间，而且没有成功的保证；
假定最初的最佳猜测产生了一个可以接受的结果，现在虽然不能保证最优解决办法已被发现，但实验者仍倾向于终止实验。
】

第二章 简单比较实验 第二章单元测验

1、 问题:在两样本t检验中，原假设是两样本均值相等，备择假设是两样本均值不相等，显著性水平为α，则检验统计量t0应该与什么分位数进行比较？
选项：
A:自由度为n1+n2-1的t分布的上α/2分位数
B:自由度为n1+n2-2的t分布的上α/2分位数
C:自由度为n1+n2-1的t分布的下α/2分位数
D:自由度为n1+n2-2的t分布的下α/2分位数
答案: 【自由度为n1+n2-2的t分布的上α/2分位数】

2、 问题:假设 是来自分布的一个随机样本，则（离差平方和除以方差）服从
选项：
A:自由度为n-1的卡方分布
B:自由度为n的卡方分布
C:均值为0，方差为1的正态分布
D:均值为μ，方差为1的正态分布
答案: 【自由度为n-1的卡方分布】

3、 问题:在半导体制造中，通常使用湿法刻蚀去除晶体背面的硅，蚀刻速率是该过程中需要重点关注的特征。为评估两种不同的蚀刻溶液，实验人员随机选择了8个晶片，将每个晶片分为两半，其中一半用溶液1蚀刻，另一半用溶液2蚀刻，且晶片在不同溶液之间的分配是随机的。下列是观察到的蚀刻速率（单位：密尔/分）。溶液1：9.9，9.4，10.0，10.3，10.6，10.3，9.3，9.8。溶液2：10.2，10.0，10.7，9.5，10.2，9.6，9.4，10.3。检验假设，则当进行配对检验时，检验统计量等于
选项：
A:0.169
B:-0.169
C:0.178
D:-0.178
答案: 【-0.178】

4、 问题:当自由度k大于何值时，t分布的均值μ=0，方差σ^2=k/(k-2)
选项：
A:1
B:2
C:3
D:4
答案: 【2】