2022知到答案 微纳加工技术 最新完整智慧树知到满分章节测试答案

绪论 单元测试

1、 问题:微纳加工是以平面集成加工为代表的非传统的加工方法，加工形成的部件或结构本身的尺寸在（ ）量级。
选项：
A:微米
B:纳米
C:微米或纳米
答案: 【
微米或纳米
】

2、 问题:光刻工艺的基本要素主要包括（ ）。
选项：
A:光源
B:对准系统
C:光刻胶
答案: 【
光源
对准系统
光刻胶
】

3、 问题:刻蚀法图形转移技术的关键刻蚀参数：（ ）。
选项：
A:掩膜的抗刻蚀比
B:刻蚀的方向性
C:掩膜的抗刻蚀比和刻蚀的方向性
答案: 【
掩膜的抗刻蚀比和刻蚀的方向性
】

4、 问题:间接加工技术能够绕过现有设备加工能力极限，意指直接光刻技术，其图形结构的分辨率决定于某种光刻方法的分辨率。（ ）
选项：
A:对
B:错
答案: 【
错
】

5、 问题:间接加工技术就是光刻加图形转移技术。（ ）
选项：
A:对
B:错
答案: 【
错
】

第一章 单元测试

1、 问题:光学曝光的目的是把掩模上的图形成像到（ ）上。
选项：
A:光刻胶
B:Si片
C:底片
答案: 【
光刻胶
】

2、 问题:软接触通过调整（ ）实现。
选项：
A:曝光强度
B:掩膜厚度
C:压力大小
答案: 【
压力大小
】

3、 问题:接触式曝光分为（ ）。
选项：
A:硬接触
B:无压接触
C:软接触
答案: 【
硬接触
软接触
】

4、 问题:分辨率就是能够清晰分辨出间隔很近的特征图形的能力。（ ）
选项：
A:对
B:错
答案: 【
对
】

5、 问题:正胶在感光时，使聚合物发生交联。（ ）
选项：
A:对
B:错
答案: 【
错
】

第二章 单元测试

1、 问题:先进的电子束曝光机主要适用于（ ）以下的超微细加工。
选项：
A:0.5纳米
B:0.5微米
C:0.5毫米
答案: 【
0.5微米
】

2、 问题:电子束曝光的曝光效率（ ）光学曝光。
选项：
A:远大于
B:远小于
C:近似于
答案: 【
远小于
】

3、 问题:

电子枪包括发射电子的阴极和对发射电子聚束的电子透镜。（ ）

选项：
A:对
B:错
答案: 【
对
】

4、 问题:光栅扫描是对整个曝光场扫描，但电子束曝光快门只在曝光图形部分打开。（ ）
选项：
A:对
B:错
答案: 【
对
】

5、 问题:曝光平面电子束斑包含各种像差，（ ）为主要像差。
选项：
A:球差
B:色差
C:像散
答案: 【
球差
色差
】

第三章 单元测试

1、 问题:离子源按工作原理可分为（ ）。
选项：
A:电子轰击型离子源
B:气体放电型离子源
C:场致电离型离子源
D:液态金属离子源
答案: 【
电子轰击型离子源
气体放电型离子源
场致电离型离子源
液态金属离子源
】